한국표준과학연구원(KRISS·원장 김명수)은 29일 오후 1시 서울 양재동 AT센터에서 반도체 공정 측정 진단 기술의 새로운 패러다임과 미래형 모델을 제시해 줄 워크숍을 개최한다.
올해로 4회째를 맞이한 반도체공정진단 워크숍에는 연구기관 및 대학, 산업체 전문가가 참가할 예정이다.
세계 각국은 반도체 산업분야 선점을 위해 실시간 공정진단 기술 확보에 노력하고 있다. 하지만 이 분야의 기술개발은 아직 초기 단계인 만큼 연구역량을 얼마나 집중하느냐에 따라 관련 분야 산업의 미래 경쟁력이 결정될 것으로 예상된다.
이날 초청 강연에는 삼성전자 박문한 수석의 ‘차세대 로직공정 기술동향’과 KRISS 신용현 박사의 ‘차세대 반도체용 진공공정 실시간 측정진단 기술 개발 현황’, LG디스플레이 권혁진 부장의 ‘설비 예지보전 현황과 향후 전망’, 연세대 한재원 교수의 ‘반도체 공정 및 장비 진단을 위한 공간분해 발광분광기 개발’, 나노텍 차동호 사장의 ‘실시간 CVD 공정진단 SENSOR-SP OES’ 등에 대한 발표가 있을 예정이다.